檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "郭永麟".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="數位微反射鏡裝置"
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曝光微影技術是印刷電路板(printed circuit board, PCB)製程中的重要技術之一,近年來製程中對精密度要求不斷提高,並要求更高解析度更小的線寬,使得傳統接觸印刷製程之缺點越來越明…
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傳統的印刷電路板(printed circuit board, PCB)微影製程中,主要以具有光罩的鄰近式(proximity)或接觸式(contact)的曝光方式在光阻上進行曝光製程。然而,製作光…
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在半導體製程中,先進封裝(Advanced Package, AP)被視為持續摩爾定律的辦法之一,使用不同功能之晶片將其進行堆疊,並使用先進封裝可以得到較小的元件尺寸,本文將研究探討數位微影曝光系統…